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北京創世威納科技有限公司

Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.

産品中心
  • 微電子
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  • 創世威納 應用領域

    公司産品定位于高新技術發展的基礎産業,并廣泛用于微電子、光電子、通訊、微機械、新材料、新能源等領域。
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  • 新材料

選擇創世威納的4大優勢

  • 01 多年專注 經驗豐富

    專業從事微細加工設備、半導體工藝設備研發與銷售的高新技術企業。

  • 02 緊跟世界 先進技術

    采用國際上先進的“設備與工藝相結合”模式進行研發、生産與銷售。

  • 03 領域廣泛 設施齊全

    産品定位于高新技術發展的基礎産業,可提供全套設備和單一設備。

  • 04 穩定性強 安全可靠

    良好的售前服務平台、完善的售後服務體系、廣泛的技術支持能力。

關于我們

北京創世威納科技有限公司成立于2008年,現位于北京市昌平區回龍觀北京國際信息産業基地高新二街2号4層,擁有1800餘平方米的組裝、調試車間、辦公區,現在我們更專注于真空等離子體技術,成為集研發、設計、生産、銷售于一體的設備制造商。

公司通過了ISO質量管理體系認證,獲批高新技術企業,擁有4項發明專利及十餘項實用新型專利,北京創世威納緊跟世界技術步伐,不斷提供技術先進、性能優良的鍍膜設備、刻蝕設備、真空應用定制設備及各類真空等離子體設備,應用于各研究院所、大專院校、企業單位。

企業概況發展曆程 企業資質 企業文化
新聞資訊
  • ITO薄膜

    2019-04-29

    ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化铟錫,ITO薄膜即铟錫氧化物半導體透明導電膜,通常有兩個性能指标:電阻率和透光率。

  • PVD技術常用的方法

    2019-04-29

    PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍),以下介紹幾種常用的方法。

  • 常用真空術語

    2019-04-29

    常用真空術語:1.标準環境條件 standard ambient condition: 溫度為20℃,相對濕度為65%,大氣壓力為101325Pa=1013.25mbar=760Torr。

  • 濺射沉積技術

    2019-04-29

    濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉澱在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積,薄膜與基體結合力好,濺射密度高、針孔少,膜層可控性和重複性好等優點,而且任何物質都可以進行濺射,因而近年來發展迅速,應用廣泛。

  • 氣體的放電

    2019-04-29

    在PVD實際中,你是否遇到過開靶點不起來,需要充入更多的工作氣體或多關閉高閥才能正常點靶,是否遇到在輝光清洗時,産品“打火”,燒蝕壞産品的情況。其實這些都與氣體的放電有關,下面就聊聊與PVD相關的幾種放電類型。

  • 為什麼PVD塗層可以沉積不同的顔色

    2019-04-29

    我們看到一個物體,首先感到是它的顔色。物質的顔色是由人眼視覺看得到的。如果在沒有光線的密閉的暗室中,或在漆黑的夜裡,物體的顔色是看不見的。隻有在光照下,物質的顔色才能為肉眼所見,所以我們說顔色是光和眼睛相互作用而産生的。事實上,顔色是大腦對投射在視網膜上不同性質光線進行辨認的結果。

  • 5G時代來臨,不鏽鋼中框加PVD方案将成新的趨勢

    2019-04-29

    随着5G時代的臨近,行業内公司紛紛布局産業鍊相關節點。行業相關人表示,看好金屬中框的産業節點優勢,行業從“金屬外殼+金屬中框”向未來“金屬中框+雙面玻璃”的産業發展過程中,将需要7系鋁、不鏽鋼甚至钛合金等一類加工技術壁壘更高、價值更高的金屬中框,以保持機身的強度和對大屏的支撐,這将顯著提高金屬中框産業價…

  • HIPIMS技術簡介

    2019-04-29

    磁控濺射技術廣泛應用于薄膜制備領域,裝飾鍍膜應用領域和工具鍍膜應用都比較常見,但磁控濺射處理技術有很多的局限性,例如磁控濺射靶功率密度受靶熱負荷的限制,即當濺射電流較大時,過多的正離子對靶進行轟擊可能使濺射靶過熱而燒損,濺射的能量有限金屬離化率不高等問題。近年來國内外發展起來了一種高功率脈沖磁控濺射…

  • iPhone不鏽鋼中框+PVD工藝

    2019-04-29

    物理氣相沉積 (PVD) 着色工藝。金色和深空灰色外觀的不鏽鋼邊框采用先進的物理氣相沉積着色工藝,使顔色和反射率與玻璃機身相得益彰。

  • PVD在顯示屏行業現狀

    2019-04-29

    PVD(Physical Vapor Deposition)技術,其實是制備薄膜材料的主要技術之一。用于制備薄膜材料的物質被稱為PVD鍍膜材料。經過多年發展,PVD 鍍膜技術被廣泛用于應用于電子、光學、機械、建築、材料等領域。

  • 類金剛石(DLC)簡介

    2019-04-29

    類金剛石(英文:Diamond-likeCarbon 縮寫DLC)是一種非晶碳,這種材料表現出很多與金剛石相類似的性質,DLC常常作為塗層材料使用。

  • 平衡磁控濺射和非平衡磁控濺射

    2019-04-29

    平衡磁控濺射即傳統的磁控濺射,是在陰極靶材背後放置芯部與外環磁場強度相等或相近的永磁體或電磁線圈,在靶材表面形成與電場方向垂直的磁場。沉積室充入一定量的工作氣體,通常為Ar,在高壓作用下Ar 原了電離成為Ar+離子和電子,産生輝光放電,Ar+ 離子經電場加速轟擊靶材,濺射出靶材原子、離子和二次電子等。

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